Войти
Регистрация
keyboard_arrow_left Вернуться назад

Продукция компании "ИНТЕК", компания

ШифрНазвание 
 
Data pager
Data pager
12
Записей на странице
PageSizeComboBox
select
Страница 1 из 2, записей с 1 по 10 из 12
ПК1205383 Микро-гидродинамика и микро TAS. Микроэлектроника. Плоские панели. Автоматическое оборудование. Нано Импринт
Оборудование для исследований и производства: системы совмещения; системы бондинга; системы УФ озонирования; источники УФ излучения; системы финишного экспонирования; системы сплошного и краевого экспонирования; панели плоские; модули нано-импринта и др.
Производитель: "Интек", фирма
ПК1205385 Eltre 3/6/8 NIL для исследований и разработки
Системы для проведения нано-импринт операций с ручной загрузкой для получения наноструктур. Ширина кантилевера 200 нм. Критическая крупность структур до 30 нм. Занимаемая площадь 0,5 - 0,75 кв.м. Класс чистой комнаты 100.
Производитель: "Интек", фирма
ПК1205386 Прецизионные решения Temescal
Оборудование для обработки полупроводниковых пластин. Диаметр пластин до 200 мм. Вместимость до 42 пластин. Расстояние между субстратами 965 - 1067 мм. Производительность вакуумного насоса 105 куб.м/ч.
Производитель: "Интек", фирма
ПК1205460 PlasmaPro NGP 1000 плазменные системы
Системы плазменной обработки полупроводниковых пластин. Диаметр электродов до 490 мм. 3 производственных модуля. Период передачи данных 50 мс. Габаритные размеры установки до 4316 х 1775 х 1401 мм.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology
ПК1205464 Ионно-лучевые и депозиционные системы
Системы ионно-лучевого напыления полупроводниковых пластин. Длина волны 633 нм. Потери до 40 ppm. Диаметр пластин до 200 мм. Точность до 1 %. Угол поворота субстрата от минус 90 до плюс 65 градусов.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology
ПК0915143(1) Установки конформного осаждения тонких пленок OpAL, FlexAL
Установки атомно-слоевого осаждения и вакуумного осаждения для исследовательских работ и мелкосерийного производства. Система послойного атомного осаждения для проведения процессов классическогоатомного осаждения тонких солев металлов, оксидов и нитридов. Оснащена прогреваемым подложкодержателем (до 400 градусов Цельсия) с малой тепловой инерцией для размещения подложек диаметром до 200 мм. Система плазменно-стимулированного послойного атомного осаждения для процессов послойного атомного и плазменно-стимулированного послойного осаждения тонких слоев металлов, оксидов и нитридов.
Производитель: "ИНТЕК", компания
ПК0915143(2) Установки плазменного травления и напыления Plasmalab
Установки плазменного травления и напыления малогабаритные для исследовательских работ и мелкосерийного производства полупроводников. Все системы имеют специальную быстро откачиваемую камеру, оптимизированную систему газораспределения и полностью автоматизированную систему управления. Установки с ручной загрузкой и подложкодержателем 170 или 240 мм; 380 или 460 мм. Установки со шлюзовой камерой с ручной загрузкой, 205/240 мм электроды; 330 мм электроды. Модуль с планарным реактором 13.56 МГц для плазменного травления и осаждения диэлектриков.
Производитель: "ИНТЕК", компания
ПК0915144 INCA GSR Платформа электронно-зондового микроанализа
Универсальная платфлорма для электронно-зондового микроанализа остаточных следов пороховых составляющих выстрела из огнестрельного оружия. Определение и измерение искомых частиц, определение морфологии и химического состава частиц. выстрела. Основой платформы является сканирующий электронный микроскоп. Рассмаириваемая площвдь 100 кв. мм. Мин. размер детектируемых частиц 0.5 (4 пикселя0. Увеличение 512. Время 45 мин.
Производитель: "ИНТЕК", компания
ПК0915145 X-Max Рентгеновские детекторы
Рентгеновские детекторы для растровых электронных микроскопов. Одновременное получение изображения и проведение нано-анализа. Размер активной зоны 20; 50; 80 кв. мм. Скорость счета 100 000 имп/сек. Ток зонда 20-50 нА.
Производитель: "ИНТЕК", компания
ПК1205388 Усовершенствованная серия стилусных профилометров
Профилометры стилусные настольного исполнения. Длина сканирования 10 - 55 мм. Скорость сканирования 2 - 10 мкм/с. Частота дискретизации 50 - 2000 Гц. Диаметр рабочего столика 140 - 200 мм. Ток 150 мА.
Производитель: "Интек", фирма
Рейтинг@Mail.ru