Войти
Регистрация
keyboard_arrow_left Вернуться назад

Продукция компании "SENTECH Instruments GmbH"

ШифрНазвание 
 
Data pager
Data pager
12
Записей на странице
PageSizeComboBox
select
Страница 1 из 2, записей с 1 по 10 из 14
ПК0912129 Optical metrology for industrial quality control and R and D of thin film of solar cells
Системы измерительные. До 7 измерительных головок. Еллипсометры спектроскопические. Спектральный диапазон 240 - 930 нм. Еллипсометры лазерные. Рефлектометры. Длина волны 450 - 920 нм.
Производитель: "SENTECH Instruments GmbH"
ПК0912130 ICPECVD Plasma Deposition System SI 500 D PECVD
Системы плазменной обработки. Напряжение 400 В. Ток 16 А. Давление: сжатого воздуха 5; охлаждающей воды 4 - 6 бар. Диаметр трубы 80 мм. Потребляемая мощность 1200 Вт.
Производитель: "SENTECH Instruments GmbH"
ПК0912131 CER Ellipsometer SE 500adv
Эллипсометры - рефлектометры комбинированные. Длина волны 632,8 нм. Диаметр пятна 1 мм. Спектральный диапазон 450 - 920 нм. Толщина проб до 25 мкм.
Производитель: "SENTECH Instruments GmbH"
ПК0912132 PTSA-ICP Plasma Etcher SI 500
Аппараты плазменной гравировки. Потребляемая мощность 600 Вт. Давление: сжатого воздуха 6; охлаждающей воды 4 бар. Расход охлаждающей воды 12 л/мин. Ток 32 А. Температура от минус 150 до плюс 400 градусов Цельсия. До 8 газовых линий.
Производитель: "SENTECH Instruments GmbH"
ПК0912133 Etchlab 200 RIE Plasma Etcher
Граверы плазменные. Потребляемая мощность 600 Вт. Частота генератора 13,56 МГц. Диаметр: реактора 298; электрода 215 мм.
Производитель: "SENTECH Instruments GmbH"
ПК0912134 RIE Plasma Etch System SI 591
Граверы плазменные. Мощность блока питания 600 Вт. 4 газовых потока. Ток 60 А. Давление: сжатого воздуха 5; охлаждающей воды 4 - 6 бар. Расход охлаждающей воды 2 л/мин. Диаметр трубы 80 мм.
Производитель: "SENTECH Instruments GmbH"
ПК0912135 RIE Plasma Etch System SI 100
Гравировальные системы плазменные. Давление: сжатого воздуха 5; охлаждающей воды 4 - 6 бар. Расход охлаждающей воды 2 л/мин. Напряжение 400 В. Ток 60 А. Частота 50 Гц.
Производитель: "SENTECH Instruments GmbH"
ПК1109037 Оборудование для плазмохимических процессов
Установки плазменного травления. Частота ВЧ источника смещения 13,56 МГц. Мощность 1200 Вт. Температура от минус 30 до плюс 250 градусов Цельсия. Установки криогенного высокоскоростного травления в индуктивно-связанной плазме. Температура подложки от минус 150 до плюс 400 градусов Цельсия. Частота ВЧ источника смещения 13,56 МГц. Мощность 1200 Вт. Установки реактивного ионного травления. Температура подложки 20 - 80 градусов Цельсия. Частота ВЧ генератора 13,56 МГц. Мощность 600 Вт. Установки плазменного нанесения диэлектрических пленок. Температура от 80 градусов Цельсия. Мощность 1200 Вт. 6 газовых линий. Установки нанесения высококачественных диэлектрических пленок со стресс-контролем. Температура подложки 25 - 350 градусов Цельсия. Частота ВЧ генератора 13,56 МГц. Мощность 600 Вт.
Производитель: "Энергоавангард" ООО
ПК1109038 Etchlab 200 RIE Plasma Etcher установки плазменного травления
Установки плазменного травления диэлектрических, полупроводниковых, металлических и полимерных слоев. Мощность 600 Вт. Частота ВЧ генератора 13,56 МГц. Диаметр: реактора 298; электрода 215 мм.
Производитель: "SENTECH Instruments GmbH"
ПК1109039 ICPECVD плазменная система SI 500D
Системы плазменной обработки диэлектрических слоев при низкой температуре. Мощность 600 Вт. Давление 3 - 6 бар. Напряжение питания 400 В. Ток 16 А. Диаметр трубки 80 мм.
Производитель: "SENTECH Instruments GmbH"
Рейтинг@Mail.ru